华为断芯多日 ASML来华展示可向北京出口的光刻机

撰写:
最后更新日期:
撰写:
最后更新日期:

第三届中国国际进口博览会举行期间,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)也参展,由于目前仍不能向中国出口EUV光刻机,此次展示的是其DUV光刻机,该产品可生产7nm及以上制程芯片。

ASML是全球最大半导体设备制造商。(荷兰ASML官网)

作为全球唯一能生产EUV光刻机的企业,ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机。

不过,ASML全球副总裁、中国区总裁沈波在进博会现场表示,该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度,对全球客户均一视同仁,在法律法规框架下,都将全力支持。

据中国媒体快科技11月6日报道,在此次进博会上,ASML还带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。

10月14日,ASML的首席财务官达森(Roger Dassen)在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际(SMIC)等中国客户的业务情况,其表示一些情况下,出口DUV(深紫外)光刻机,无需美国许可。但达森也补充说,如果相关系统或部件是从美国出口的,那些设备仍然需要得到美方的许可。

华为遭断供后,中国正加大对芯片研发的投入。(视觉中国)

达森指出,ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释,当然也知道这些与特定的中国客户密切相关,但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统,且无需出口许可证。

目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机,分为干分式与液浸式两种。其中,液浸式于ASML手中诞生,其波长虽然有193nm,但等效为134nm,经过多重曝光后,液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是,每多一次曝光都会使得制造成本大大提升,而且良品率也难以控制。

EUV光刻机采用13.5nm波长的光源,是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说,就算DUV光刻机能从尼康、佳能那里找到替代,但如果没有ASML的EUV光刻机,芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。

推荐阅读:

「版权声明:本文版权归多维新闻所有,未经授权,不得转载」


X
X
请使用下列任何一种浏览器浏览以达至最佳的用户体验:Google Chrome、Mozilla Firefox、Internet Explorer、Microsoft Edge 或Safari。为避免使用网页时发生问题,请确保你的网页浏览器已更新至最新版本。