韩国企业发力 在EUV光刻技术方面取得重大进展

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EUV(极紫外光源)光刻机目前只有荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)能制造出来,有消息称,韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了进展,但并没有指明是哪一家企业,合理推测应指代韩国整个半导体光刻产业。

ASML是全球最大半导体设备制造商。(荷兰ASML官网)

韩国媒体BusinessKorea11月13日报道,在过去的十年中,包括三星电子在内的全球公司进行了深入的研究和开发,以确保技术处于领先地位。最近,代工公司(意指三星)开始使用5纳米EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器(AP)。

韩国知识产权局发布的《近10年(2011年至2020年)专利申请报告》显示,2014年,向韩国知识产权局提交的与EUV相关的专利申请数量达到88件,2018年达到55件,2019年达到50件。

特别是,韩国公司正在迅速缩小其在极紫外光刻技术上与外国公司的差距。2019年,韩国人提交的专利申请数量为40件,超过了国外企业的10件。这是韩国提交的专利申请量首次超过国外企业。

按公司划分,全球六大公司的专利申请数占了总数的59%,卡尔蔡司占18%,三星电子占15%,ASML占11%,S&S Tech占8%,台积电占6%,SK 海力士占1%。

从具体的技术项目来看,曝光装置技术申请专利占31%,掩膜技术申请专利占28%,其他申请专利占9%。在工艺技术领域,三星电子占39%,台积电占15%。在光罩领域,S&S科技占28%,Hoya占15%,汉阳大学占10%,朝日玻璃占10%,三星电子占9%。

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