荷兰巨头1nm光刻机迎突破 中国订购的EUV光刻机仍未拿到手

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荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该公司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。

ASML是全球最大半导体设备制造商。(荷兰ASML官网)

据中国媒体TechWeb11月30日报道,先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时,ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。

按照ASML的计划,预计相应的曝光设备全线准备好之后,会在2022年实现商业化。

然而,这家荷兰企业的光刻机制造技术取得重大突破之际,中国芯片制造巨头中芯国际自ASML订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉,中芯国际于2018年自ASML手上购买了一台价值约1.2亿美元的EUV光刻机。

由于订购的设备一直没到手,中芯国际也在11月11日当天下调了一部分资本支出,将原本约457亿元人民币(1元人民币约合0.14美元)的开支计划减少了55亿元至约402亿元。

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